咨询电话:13811156182
NEWS新闻动态
首页 > 新闻中心 > 超越传统,真空等离子清洗机实现更高深清洗效果

超越传统,真空等离子清洗机实现更高深清洗效果

更新时间:2020-07-09      点击次数:1559
  技艺的发展,工艺的进步是时代发展的必经之路,在新的技艺的支持下,我们要做的就是在传统技艺的基础上实现更好的加工效果,真空等离子清洗机便是如此。
  传统的清洗方法采用的是化学清洗的方法,如用双氧水去除硅片表面的颗粒和有机物;用盐酸去除表面金属;用硫酸去除表面金属和有机物。湿法清洗作为传统的清洗方法依然还被应用,但是与现在的等离子技术应用相比还是有很多缺点:
 

真空等离子清洗机

  1、不能控制;
  2、容易引入新的杂质;
  3、对残余物不能处理;
  4、消耗大量的酸和水;
  5、清洗不*,需反复清洗;
  6、污染环境,需对废液进行处理;
  真空等离子清洗机是因压等离子技术的突破与射频低温等离子体技术使用,被广泛使用于各种行业范畴,尤其是在微电子工业中的使用使清洗更加快速和便利。等离子体清洗进程不会发生污染,工艺进程是安全、环保、绿色、创新使用,能够节约很多的水资、人力和硫酸使用等离子体中的活性氧基团与光刻胶反应,也能够使用等离子体中所存在的很多电子和离子对外表进行修饰的作用,来改变基底外表的浸润性和粗糙度。它超越了传统,实现了更高深清洗效果。
嘉润万丰(北京)科技有限公司
  • 联系人:张经理
  • 地址:北京市丰台区贾家花园15号院7号楼F1B-10
  • 邮箱:jrwf88@163.com
  • 传真:010-51872791
关注我们

欢迎您关注我们的微信公众号了解更多信息

扫一扫
关注我们
版权所有 © 2024 嘉润万丰(北京)科技有限公司(www.bjjrwf.com) All Rights Reserved    备案号:京ICP备13049909号-2    sitemap.xml
管理登陆    技术支持:化工仪器网