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首页 > 产品中心 > 半导体材料表面处理设备 > FW低温等离子去胶机
  • PC-6S等离子清洗机

    公司自主研发新一代的等离子清洗设备,外观大方简洁,质量可靠,性能稳定,广泛应用于纳米材料学,半导体,微电子,光学,电子学,医药学,环境学,微流控生物学,LED,石墨烯等不同领域。 主要用于以下实验:表面清洁、表面活化、键合、去胶、金属还原、简单刻蚀、器械的消毒、去除表面有机物、疏水实验、镀膜

    访问次数:8160
    产品价格:35000
    厂商性质:生产厂家
    更新日期:2024-07-01
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